[发明专利]去除镁合金材料上的涂层的方法有效
| 申请号： | 03158050.5 | 申请日： | 2003-09-04 |
| 公开（公告）号： | CN1495279A | 公开（公告）日： | 2004-05-12 |
| 发明（设计）人： | 木村浩一;西井耕太 | 申请（专利权）人： | 富士通株式会社 |
| 主分类号： | C22B7/00 | 分类号： | C22B7/00;C22B26/22;B24C1/00;C23G1/22;B08B3/08;B08B1/00 |
| 代理公司： | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人： | 潘培坤;楼仙英 |
| 地址： | 日本神奈*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种用于去除形成于镁合金材料上的涂层的方法，该方法包含物理去除步骤和化学去除步骤。在物理去除步骤中，涂层通过刀具或采用湿法清理的方法部分地去除该涂层，然后，通过将该镁合金材料浸入到一碱性分离剂中使该涂层剥离。 | ||
| 搜索关键词： | 去除 镁合金 材料 涂层 方法 | ||
【主权项】：
1.一种去除形成于镁合金材料上的涂层的方法，其特征在于，该方法包含：部分去除步骤，物理地部分去除该涂层；第一化学去除步骤，通过在该涂层上应用第一碱性分离剂从而使该涂层剥离。
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