[发明专利]一种电致发光器件制备工艺中制备背电极的方法无效
| 申请号： | 03156237.X | 申请日： | 2003-09-02 |
| 公开（公告）号： | CN1486123A | 公开（公告）日： | 2004-03-31 |
| 发明（设计）人： | 邓振波;张梦欣;梁春军;王永生 | 申请（专利权）人： | 北京交通大学 |
| 主分类号： | H05B33/10 | 分类号： | H05B33/10;H05B33/26 |
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| 地址： | 100044北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种电致发光器件制备工艺中制备背电极的方法。先对光刻好的ITO玻璃基片，进行类似加盖印章式的简单处理，将聚亚胺酯材料印制到已经光刻好的ITO玻璃基片上；形成绝缘隔离柱，备蒸发完各个有机层后蒸发背电极。其步骤：设计背电极的条纹图案；选择高分子材料—聚二甲基硅氧烷，制作条纹图案的图章；利用该图章，将聚亚胺酯材料印制到已经光刻好的ITO玻璃基片上，方向与ITO垂直，厚度约为1－5微米；烘干冷却后，形成与ITO条纹垂直的的沟道——隔离柱；蒸镀其他层；蒸镀背电极材料。该方法的优点是既省略了光刻的复杂工艺，又克服了掩膜法分辨率低，对板(模具)困难的缺点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 电致发光 器件 制备 工艺 电极 方法 | ||
【主权项】：
1.一种电致发光器件制备工艺中制备背电极的方法，其特征在于：该方法的具体步骤：(1)设计背电极的条纹图案；(2)选择高分子材料—聚二甲基硅氧烷，制作条纹图案的图章；(3)利用该图章，将聚亚胺酯或绝缘树脂材料印制到已经光刻好的ITO玻璃基片上，方向与ITO垂直，厚度约为1-5微米；(4)烘干冷却后，形成与ITO条纹垂直的的沟道—隔离柱；(5)蒸镀其他层；(6)蒸镀背电极材料。
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