[发明专利]照相元件、化合物及方法无效

专利信息
申请号: 03155704.X 申请日: 2003-08-29
公开(公告)号: CN1490669A 公开(公告)日: 2004-04-21
发明(设计)人: W·J·贝利;B·托马斯 申请(专利权)人: 伊斯曼柯达公司
主分类号: G03C7/305 分类号: G03C7/305;G03C7/32
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 邰红;王其灏
地址: 美国*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 公开一种照相元件,它包含感光卤化银乳剂层,该层具有与之相联系的青成色剂,具有右式:其中:术语“NB成色剂”代表一种通式(I)的成色剂,它与显影剂倍半硫酸4-氨基-3-甲基-N-乙基-N-(2-甲磺酰氨基乙基)苯胺水合物生成一种染料,后者采用旋涂的左带宽(LBW)比溶液形式的相同染料窄至少5nm;V是含砜、亚砜或磺酰胺的基团;Y是H或偶合-离去基团;每个Z′、Z″和Z*是独立选择的取代基,其中n和p独立地是0~2;X1和X2是卤素原子并且可相同或不同;以及条件是,V、全部Z′、Z″和全部Z*中的脂族碳原子总和至少是8。
搜索关键词: 照相 元件 化合物 方法
【主权项】:
1.一种照相元件,它包含感光卤化银乳剂层,该层具有与之相联系的青“NB成色剂”,具有通式:其中:术语“NB成色剂”代表一种通式(I)的成色剂,它与显影剂4-氨基-3-甲基-N-乙基-N-(2-甲亚磺酰氨基(sulfonamido)乙基)苯胺倍半硫酸根水合物生成一种染料,后者采用旋涂的左带宽(LBW)比溶液形式的相同染料窄至少5nm;V是含砜、亚砜或磺酰胺的基团;Y是H或偶合-离去基团;每个Z′、Z″和Z*是独立选择的取代基,其中n和p独立地是0~2;X1和X2是卤素原子并且可相同或不同;以及条件是,V、全部Z′、Z″和全部Z*中的脂族碳原子总和至少是8。
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