[发明专利]构件的涂黑方法和装置无效
| 申请号： | 03152486.9 | 申请日： | 2003-08-01 |
| 公开（公告）号： | CN1483854A | 公开（公告）日： | 2004-03-24 |
| 发明（设计）人： | 沃尔夫冈·莱尔歇;汉斯雅各布·德里森;温弗里德·格拉芬;沃尔特·伍斯特 | 申请（专利权）人： | 伊普森国际股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/26 | 分类号： | C23C16/26 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 王维玉;丁业平 |
| 地址： | 联邦*** | 国省代码： | 德国;DE |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一部件涂黑的方法。为实现该方法，即在部件上进行涂黑表面并无脱落倾向，以及在制作、维护和消除处理时无需使用昂贵的液体或电解液，可将部件的表面在一加热处理空间中同时引入放碳介质。另外本发明还涉及一装置，采用该装置可实施按照本发明的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 构件 涂黑 方法 装置 | ||
【主权项】：
1.部件涂黑的方法，其特征是，对在一加热处理空间(1)中的表面同时供应放碳介质。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
