[发明专利]控制光阻分配的方法及其装置无效

专利信息
申请号: 03152480.X 申请日: 2003-08-01
公开(公告)号: CN1484096A 公开(公告)日: 2004-03-24
发明(设计)人: 钱信宏;朱崇仁 申请(专利权)人: 旺宏电子股份有限公司
主分类号: G03F7/16 分类号: G03F7/16;G03F7/00;H01L21/027
代理公司: 隆天国际知识产权代理有限公司 代理人: 潘培坤;楼仙英
地址: 台湾省*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种控制光阻分配的方法,包括下列步骤:提供具有一旋转盘的涂覆机;提供一晶片;将晶片固定于旋转盘;确认涂覆机的控制板,用以控制旋转盘;确认位于控制板上的至少一节点,用以向旋转盘提供多个控制信号;提供一信号分装置析;将信号分析装置连接到控制板上的节点;在晶片上分布光刻胶;确认第一控制信号,以使旋转盘提供能够破坏光刻胶表面张力的最小旋转速度;测量第一控制信号;在信号分析装置中,显示上述第一控制信号;控制光阻分配的持续时间,以提供均匀的光刻胶厚度,并且节省光刻胶的使用量。
搜索关键词: 控制 分配 方法 及其 装置
【主权项】:
1.一种控制光阻分配的方法,包括下列步骤:提供一具有旋转盘的涂覆机;提供晶片;将上述晶片固定在上述旋转盘上;确认上述涂覆机的一控制板,用以控制上述旋转盘;确认位于上述控制板上的至少一个节点,用以给上述旋转盘提供多个控制信号;提供一信号分析装置;将上述信号分析装置连接到上述控制板上的节点;在上述晶片上分布光刻胶;确认第一控制信号,以使上述旋转盘提供能够破坏光刻胶表面张力的最小旋转速度;测量上述第一控制信号;在上述信号分析装置中,显示上述第一控制信号;控制光阻分配的持续时间,用以提供均匀性的光刻胶厚度,并且节省光刻胶的使用量。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于旺宏电子股份有限公司,未经旺宏电子股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/03152480.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top