[发明专利]化学机制控制型高浓度臭氧/反应液体产生系统及方法有效

专利信息
申请号: 03150372.1 申请日: 2003-07-25
公开(公告)号: CN1569681A 公开(公告)日: 2005-01-26
发明(设计)人: 金光祖;陈秋美 申请(专利权)人: 财团法人工业技术研究院
主分类号: C02F1/78 分类号: C02F1/78;C02F1/68
代理公司: 上海智信专利代理有限公司 代理人: 李柏
地址: 台湾省新竹县*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明提供一种制造高浓度臭氧/反应液体(例如臭氧水)的方法与系统。不同于传统单独以控制物理性条件来提高臭氧溶解浓度,本发明透过添加适当的化学性自由基去除剂(radical scavenger)于臭氧/反应液体混合系统,以选择性控制自由基的反应机制,使臭氧于反应液体中的溶解能力能突破系统物理性条件限制,使趋近系统热力学的饱和浓度,于是提高臭氧在反应液体中的溶解浓度与稳定度。本发明并提供一套结合化学性添加及回流循环机制的高浓度臭氧/反应液体产生系统。
搜索关键词: 化学 机制 控制 浓度 臭氧 反应 液体 产生 系统 方法
【主权项】:
1.一种化学机制控制型高浓度臭氧/反应液体产生系统,其主要包含以下组成部分:一臭氧气体产生设备、一臭氧溶解设备、一化学品添加机构、及一循环回路机构,其中:该臭氧气体产生设备包含一臭氧气体产生器,该臭氧气体产生器适于连接一空气或氧气供给气体源,而产生臭氧气体;该臭氧溶解系统包含一气液溶解单元及一反应温度控制系统,其中该气液溶解单元设有一气液溶解槽及一气液分离装置,臭氧气体产生器所产生的臭氧气体通入反应液体供给管线后,经由泵送入该气液溶解槽,以提供臭氧气体与该反应液体进行溶解反应的空间,其中该气液溶解槽的未溶解臭氧由该气液分离装置去除反应液体后,可循环回流至气液溶解槽中再次反应,或被送至该臭氧气体破坏器进行分解而排放至外界;该臭氧溶解系统的反应温度由该反应温度控制系统控制,该反应温度控制系统可包括冷却设备及加热设备;该化学品添加机构包含一设置于该臭氧气体供给管线上的注入器及/或该反应液体供给管线上的注入器,于是一自由基去除剂及一选择性的pH值控制物质可经由此处注入这些管线内并携带至该气液溶解槽;及该循环回路机构包含一流量控制出水阀,一回路流量调整阀,一出流水管及一回流管路,其中该出流水管将该气液溶解槽内的臭氧/反应液体导出;该流量控制出水阀位于该出流水管上;该回流管路的一端连接至该反应液体供给管线,而另一端连接在该出流水管且位于该气液溶解槽与该流量控制出水阀之间的位置;该回路流量调整阀位于该回流管路上,于是借助该流量控制出水阀及该回路流量调整阀将经该气液溶解槽产生的臭氧/反应液体部分回流至该气液溶解槽之内,使臭氧/反应液体在其中进行多次循环反应,提高溶解浓度,同时该气液溶解槽产生的臭氧/反应液体由该流量控制出水阀控制稳定流量输出至用水端。
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