[发明专利]低相干性干涉条纹的分析方法有效
| 申请号： | 03149200.2 | 申请日： | 2003-06-20 |
| 公开（公告）号： | CN1475769A | 公开（公告）日： | 2004-02-18 |
| 发明（设计）人： | 葛宗濤 | 申请（专利权）人： | 富士写真光机株式会社 |
| 主分类号： | G01B9/02 | 分类号： | G01B9/02;G01B11/24;G02F1/21;G06F17/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 蒋世迅 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 在一种低相干性干涉条纹分析方法中，利用包络函数，把由样品的物光和参考光形成的干涉条纹光强分布，表示为光强的分布函数。接着进行相位移动，以便对每一移动行程测量光强。根据由此在相应各移动行程上测量的光强，计算光强分布函数的未知参数。然后，根据计算的未知参数，确定包络函数曲线的峰值位置。根据由此确定的峰值位置，确定样品的相位信息。 | ||
| 搜索关键词： | 相干性 干涉 条纹 分析 方法 | ||
【主权项】：
1.一种低相干性干涉条纹的分析方法，把干涉仪设备内用作照明光的低相干光分为两束光分支，用由此获得的两束光分支之一作为参考光，以另一光分支照射样品，以便形成载运所述样品相位信息的物光，然后根据所述物光与所述参考光彼此干涉获得的干涉条纹信息，分析所述样品的相位信息；所述方法包括的步骤为：用预定的包络函数，把沿所述干涉仪设备光轴的所述干涉条纹光强分布，表示为包括未知参数的预定光强分布函数；以预定的移动宽度进行相位移动，以便对每一移动行程，测量所述光强分布；根据对每一移动行程上所述测量的光强，计算所述光强分布函数的所述未知参数；根据所述计算的未知参数，确定所述包络函数曲线的峰值位置；和根据由此确定的峰值位置，获得所述相位信息。
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