[发明专利]研磨用组合物无效
| 申请号： | 03140710.2 | 申请日： | 2003-05-30 |
| 公开（公告）号： | CN1461766A | 公开（公告）日： | 2003-12-17 |
| 发明（设计）人： | 石桥智明;杉山博保;大脇寿树 | 申请（专利权）人： | 不二见株式会社 |
| 主分类号： | C08J5/14 | 分类号： | C08J5/14 |
| 代理公司： | 上海市华诚律师事务所 | 代理人： | 徐申民 |
| 地址： | 暂无信息 | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种能够防止磁盘基片表面的外周部分被过度研磨的研磨用组合物。依照本发明的第一研磨用组合物包括由上面的通式表示的化合物：字母X表示聚醚多元醇的残基，字母m表示与一个聚醚多元醇分子中的羟基数相等的数字，字母Y表示二价烃基，字母Z表示具有活性氢原子的单价化合物的残基，字母n表示等于或者大于3的整数。依照本发明的第二研磨用组合物包括具有衍生自异戊二烯磺酸或其盐的单体单元的聚合物。 | ||
| 搜索关键词： | 研磨 组合 | ||
【主权项】：
1、一种研磨用组合物，其中该研磨组合物包括研磨剂、研磨促进剂和水，其特征在于所述的研磨用组合物进一步包括由下面的通式所表示的化合物：其中字母X表示聚醚多元醇的残基，字母m表示与一个聚醚多元醇分子中的羟基数相等的数字，字母Y表示二价烃基，字母Z表示具有活性氢原子的单价化合物的残基，字母n表示等于或者大于3的整数。
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