[发明专利]聚酯薄膜和记录带无效
| 申请号: | 03138377.7 | 申请日: | 2003-05-28 |
| 公开(公告)号: | CN1462028A | 公开(公告)日: | 2003-12-17 |
| 发明(设计)人: | 小野雅章;冈本克哉;深田一吉 | 申请(专利权)人: | 东丽株式会社 |
| 主分类号: | G11B5/70 | 分类号: | G11B5/70;B32B27/14;B32B27/08;B32B27/36 |
| 代理公司: | 北京市中咨律师事务所 | 代理人: | 段承恩;陈海红 |
| 地址: | 暂无信息 | 国省代码: | 日本;JP |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | 在聚酯薄膜的单侧表面上形成含有有机化合物微细粒子和有机化合物的被膜,被膜中的有机化合物微细粒子和有机化合物的重量比为1∶0.2~1∶5.0,被膜表面的微细表面突起的直径为20~60nm,个数为300万~1亿个/mm2,而且,被膜表面的表面粗糙度Ra为0.5~1.9nm的聚酯薄膜,适合作为画质良好、不磨损MR磁头、且有良好的耐久性能的记录介质的带基薄膜。 | ||
| 搜索关键词: | 聚酯 薄膜 记录 | ||
【主权项】:
1.一种聚酯薄膜,其特征在于,在聚酯薄膜的单侧表面上形成含有有机化合物微细粒子和有机化合物的被膜,被膜中的有机化合物微细粒子和有机化合物的重量比为1∶0.2~1∶5.0,被膜表面的表面突起的直径为20~60nm,被膜表面的表面突起的个数为300万~1亿个/mm2,而且,被膜表面的表面粗糙度Ra为0.5~1.9nm。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东丽株式会社,未经东丽株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/03138377.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种顺风车公示牌
- 下一篇:手提包装盒(多味花生)





