[发明专利]微转移图案化加工方法无效
| 申请号： | 03138306.8 | 申请日： | 2003-05-23 |
| 公开（公告）号： | CN1493464A | 公开（公告）日： | 2004-05-05 |
| 发明（设计）人： | 韩艳春;王哲;邢汝博 | 申请（专利权）人： | 中国科学院长春应用化学研究所 |
| 主分类号： | B41M5/00 | 分类号： | B41M5/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 130022吉*** | 国省代码： | 吉林;22 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明属于微转移图案化加工方法。加工过程是1)在具有图形的聚二甲基硅氧烷软印章表面蒸镀一层金属；2).在平面基底上旋涂热塑性高分子溶液；3).依次测定高分子材料的玻璃化转变温度，将表面具有金属薄膜的聚二甲基硅氧烷软印章和热塑性高分子薄膜表面吻合，将整个体系加热到所选高分子材料的玻璃化转变温度后，再升高温度10～80℃，并保持5～10分钟，然后，在整个体系降低温度到所选高分子玻璃化温度后，再降低温度20～50℃，将聚二甲基硅氧烷软印章剥离，得到表面具有金属薄膜图形的高分子薄膜。加工工艺简单，成本低廉，更适合于有机薄膜晶体管的加工。 | ||
| 搜索关键词： | 转移 图案 加工 方法 | ||
【主权项】：
1.一种微转移图案化加工方法，其特征在于1).在具有图形的聚二甲基硅氧烷软印章表面蒸镀一层金属；2).在平面基底上旋涂热塑性高分子溶液；3).依次测定高分子材料的玻璃化转变温度，将表面具有金属薄膜的聚二甲基硅氧烷软印章和热塑性高分子薄膜表面吻合，将整个体系加热到所选高分子材料的玻璃化转变温度后，再升高温度10～80℃，并保持5～10分钟，然后，在整个体系降低温度到所选高分子玻璃化温度后，再降低温度20～50℃，将聚二甲基硅氧烷软印章剥离，得到表面具有金属薄膜图形的高分子薄膜。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院长春应用化学研究所，未经中国科学院长春应用化学研究所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/03138306.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
