[发明专利]成像装置有效
| 申请号： | 03137385.2 | 申请日： | 2003-06-19 |
| 公开（公告）号： | CN1480793A | 公开（公告）日： | 2004-03-10 |
| 发明（设计）人： | 中畑浩志 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G03G15/01 | 分类号： | G03G15/01;G03G15/04;G02B26/08;H01S5/00 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 | 代理人： | 韩登营 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种成像装置，具有偏转扫描第1、第2激光的偏转机构，由偏转的第1激光曝光的第1感光体，设置在比上述第1感光体远离偏转机构位置的由第2激光曝光的第2感光体，其中，第1反射部件将由偏转机构偏转扫描的第1激光向远离第1感光体方向反射，第2反射部件将第1反射部件反射的第1激光向第1感光体反射，第1反射部件配置在比偏转机构射出的第2激光更靠近第1感光体的位置，第2反射部件配置在比偏转机构射出的第2激光远离第1感光体的位置。 | ||
| 搜索关键词： | 成像 装置 | ||
【主权项】：
1.一种成像装置，具有：第1、第2激光，偏转扫描上述第1、第2激光的偏转机构，通过由上述偏转机构进行偏转扫描的第1激光曝光的第1感光体，设置在比上述第1感光体远离上述偏转机构的位置的通过由上述偏转机构进行偏转扫描的第2激光曝光的第2感光体，将由上述偏转机构偏转扫描的第1激光向远离上述第1感光体方向反射的第1反射部件，将由上述第1反射部件反射的第1激光向第1感光体反射的第2反射部件，其特征为：上述第1反射部件配置在比通过上述偏转机构射出的第2激光靠近上述第1感光体的位置，上述第2反射部件配置在比通过上述偏转机构射出的第2激光远离上述第1感光体的位置。
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