[发明专利]曝光方法、曝光装置及元件制造方法

摘要

提供一种曝光方法、曝光装置及元件制造方法，可一面维持精度一面缩短元件处理时间，并提高生产性。该曝光装置具备有多个检测设于感光基板上多个位置的调正标志的每一个的调正系统，调正系统在非扫描方向即轴方向上至少并列配置有3个或3个以上。而且曝光装置具备有在轴方向上并列配置，可检测感光基板在轴方向的位置的多个激光干涉仪、对掩膜调正感光基板的调正系统、根据感光基板的位置切换控制多个激光干涉仪，同时对应在感光基板上进行曝光的图案形成区域选择多个激光干涉仪中的1个，基于该激光干涉仪的检测位置通过调正系统进行调正曝光的控制装置。

主权项

1.一种曝光方法，适用于一面将掩膜和基板在第1方向同步移动一面对该基板曝光该掩膜的图案，其特征是：包括：检测复数个调正系统的复数个标志，其中该些调正系统是分别与设于该基板上的多个调正标志呈对向，同时在与该第1方向交叉的第2方向上并列配置有3个或3个以上；以及基于该检测结果使该掩膜和该基板的位置吻合。