[发明专利]采用垂直纳米管的存储器件无效

专利信息
申请号: 03136336.9 申请日: 2003-05-29
公开(公告)号: CN1512584A 公开(公告)日: 2004-07-14
发明(设计)人: 郑炳昊;崔原凤 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: H01L27/10 分类号: H01L27/10
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 李晓舒;魏晓刚
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 发明公开了一种采用垂直纳米管的存储器件。该存储器件包括条状第一电极的阵列、介电层、纳米管阵列、条状第二电极的阵列、存储单元和栅极电极。介电层设置在第一电极阵列上,并具有多个孔。该纳米管阵列接触第一电极阵列,通过该介电层的孔而垂直生长,并发射电子。第二电极阵列接触纳米管阵列,且第二电极垂直于第一电极地排列在该介电层上。存储单元位于第二电极阵列上,并俘获从纳米管阵列中发出的电子。栅极电极设置在存储单元的上表面上,并在纳米管阵列周围形成电场。因此,该存储器件得以高度集成并具有大的容量。
搜索关键词: 采用 垂直 纳米 存储 器件
【主权项】:
1.一种利用垂直纳米管的存储器件,该存储器件包括:条状第一电极的阵列;介电层,其设置在第一电极阵列上,且具有多个布置在该介电层中的孔;纳米管阵列,其接触第一电极阵列,穿过该介电层的孔垂直生长,并发射电子;条状第二电极的阵列,其接触纳米管阵列,且垂直于第一电极地排列在该介电层上;存储单元,其位于第二电极阵列上,并俘获从纳米管阵列中发出的电子;以及栅极电极,其位于存储单元的上表面上,并在纳米管阵列周围形成电场。
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