[发明专利]采用垂直纳米管的存储器件无效
| 申请号: | 03136336.9 | 申请日: | 2003-05-29 |
| 公开(公告)号: | CN1512584A | 公开(公告)日: | 2004-07-14 |
| 发明(设计)人: | 郑炳昊;崔原凤 | 申请(专利权)人: | 三星电子株式会社 |
| 主分类号: | H01L27/10 | 分类号: | H01L27/10 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 李晓舒;魏晓刚 |
| 地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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| 摘要: | 本发明公开了一种采用垂直纳米管的存储器件。该存储器件包括条状第一电极的阵列、介电层、纳米管阵列、条状第二电极的阵列、存储单元和栅极电极。介电层设置在第一电极阵列上,并具有多个孔。该纳米管阵列接触第一电极阵列,通过该介电层的孔而垂直生长,并发射电子。第二电极阵列接触纳米管阵列,且第二电极垂直于第一电极地排列在该介电层上。存储单元位于第二电极阵列上,并俘获从纳米管阵列中发出的电子。栅极电极设置在存储单元的上表面上,并在纳米管阵列周围形成电场。因此,该存储器件得以高度集成并具有大的容量。 | ||
| 搜索关键词: | 采用 垂直 纳米 存储 器件 | ||
【主权项】:
1.一种利用垂直纳米管的存储器件,该存储器件包括:条状第一电极的阵列;介电层,其设置在第一电极阵列上,且具有多个布置在该介电层中的孔;纳米管阵列,其接触第一电极阵列,穿过该介电层的孔垂直生长,并发射电子;条状第二电极的阵列,其接触纳米管阵列,且垂直于第一电极地排列在该介电层上;存储单元,其位于第二电极阵列上,并俘获从纳米管阵列中发出的电子;以及栅极电极,其位于存储单元的上表面上,并在纳米管阵列周围形成电场。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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