[发明专利]光刻装置、器件制造方法及其由此而制造的器件

摘要

本发明提出光刻装置、器件制造方法及其由此而制造的器件。在密封有基片平台WT的壳体10与用于制备基片的处理单元11之间传递基片，在一个基本不含杂质的环境中进行，这样基片上的抗蚀剂在杂质中暴露的最少，其中处理单元用于使基片曝光并在曝光后对基片进行处理。

主权项

1.一种光刻的投影装置，包括：-提供投影辐射束的辐射系统；-支撑图案形成部件的支撑结构，该图案形成部件用于使投影束形成所需要的图案；-用于保持基片的基片平台；-投影系统，用于将形成有图案的光束投影到基片上的靶部；-处理单元，在基片曝光于投影束之前和/或之后用于处理基片；-传输单元，用于在基片平台和处理单元之间传输基片；其特征在于具有用于控制传输单元中各杂质组分的分压力的部件，可将水的分压力控制至小于1×10-2毫巴，将烃的分压力控制至小于1×10-4毫巴，将氨类物质例如氨的分压力控制至小于1×10-6毫巴，最好小于1×10-7毫巴。