[发明专利]光刻装置及设备制造方法有效
| 申请号： | 03132798.2 | 申请日： | 2003-08-27 |
| 公开（公告）号： | CN1510515A | 公开（公告）日： | 2004-07-07 |
| 发明（设计）人： | M·M·T·M·迪里奇斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/68;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 章社杲 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明提出光刻装置及设备制造方法。采用一传感器4检测自一反射器3所辐射的发光射线5，发光射线5是由入射至所述反射器3的一表面3a上的所述辐射光束2所引起的状态改变的结果。特定波长的发光射线5的强度可用于确定辐射光束2的强度。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 设备 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻投影装置，包括：一用于提供辐射投影束的辐射系统；一用于支撑图案形成部件的支撑结构，所述图案形成部件根据所希望的图案使投影束形成图案；一用于保持一基片的基片平台；一用于将已形成图案的投影束投射于所述基片的一靶部上的投影系统，一用于检测发光射线的传感器，该发光射线由所述装置的一元件上的至少一个表面区域所辐射，所述未形成图案的投影束和已形成图案的投影束中的一个穿过所述装置，在所述区域中，根据检测过的发光射线测定所述未形成图案的投影束和已形成图案的投影束中的一个的强度的部件，其特征在于：所述传感器检测来自于所述元件的若干表面区域的所述发光射线，所述未形成图案的投影束和已形成图案的投影束入射于所述元件上；在每个所述区域中用于测定所述光束强度的所述部件测定所述投影束和已形成图案的光束中的一个的强度。
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