[发明专利]取向膜形成用的转印板有效
| 申请号： | 03132783.4 | 申请日： | 2003-08-19 |
| 公开（公告）号： | CN1495491A | 公开（公告）日： | 2004-05-12 |
| 发明（设计）人： | 金香律;宋省勋 | 申请（专利权）人： | 京东方显示器科技公司 |
| 主分类号： | G02F1/1337 | 分类号： | G02F1/1337;B05C1/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 李宗明;杨梧 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明提供了一种取向膜形成用转印板。是将被印刷的取向剂涂布到基板上形成取向膜的转印板，其特征在于：上述转印板由基膜和APR层构成，数个网点在上述APR层中规则地排列，对应上述基板的活性区域外侧的外部网点的排列同对应上述基板的活性区域内侧的内部网点的排列相比，是中等稠密的。由于直至形成在活性区域外侧的取向膜的末端部分都能具有均匀的厚度，所以能通过均匀地摩擦得到均匀的画质特性，而且，由于不会发生因取向剂的不均匀涂布而引起的液体结块现象，所以能消除因密封线的重复而引起的单元间隙不均匀的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 取向 形成 转印板 | ||
【主权项】：
1、一种取向膜形成用转印板，是将被印刷的取向剂涂布在基板上形成取向膜的，其特征在于：上述转印板由基膜和APR层构成，数个网点在上述APR层中规则地排列，对应上述基板的活性区域外侧的外部网点的排列同对应上述基板的活性区域内侧的内部网点的排列相比，是中等稠密的。
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