[发明专利]用于改善光刻装置中线宽控制的系统和方法有效
| 申请号： | 03122237.4 | 申请日： | 2003-04-23 |
| 公开（公告）号： | CN1453644A | 公开（公告）日： | 2003-11-05 |
| 发明（设计）人： | 詹姆斯·G·查考耶尼斯;斯科特·D·考斯顿 | 申请（专利权）人： | ASML美国公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 蒋世迅 |
| 地址： | 暂无信息 | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 电磁能量从光刻装置的照明光源发射。发射的电磁能量的一部分，通过照明光学模块。照明光学模块包括具有光瞳平面的一维光学变换单元。有可调整孔径的孔径装置，位置邻近于该光瞳平面，使该一维光学变换单元接收的一部分电磁能量，通过孔径装置的孔径。用该孔径装置把通过照明光学模块的电磁能量角分布，作为照明场位置的函数而调整，从而改善光刻装置中的线宽控制。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 改善 光刻 装置 中线 控制 系统 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻装置，包括：照明光源；接收所述照明光源发射的电磁能量的照明光学模块，所述照明光学模块有部分相干性调整器模块，该部分相干性模块包含：有光瞳平面的一维光学变换单元，和有孔径的孔径装置，用于改变进入所述一维光学变换单元的沿光轴的电磁能量角分布，所述孔径装置的孔径，位置邻近于所述一维光学变换单元的光瞳；位置邻近于所述照明光学模块的掩模版台，其中，从所述照明光学模块出射的电磁能量，照亮所述掩模版台夹持的掩模版的一部分；晶片台；和像平面邻近于所述晶片台的投影光学模块，所述投影光学模块，位置邻近于所述掩模版台并邻近于所述晶片台，其中，通过所述掩模版台夹持的掩模版的电磁能量，进入所述投影光学模块，并被所述投影光学模块成像在所述晶片台夹持的晶片光敏基片上，和其中，调整所述孔径装置的孔径形状，以控制邻近于所述晶片台的像平面上的电磁能量角分布。
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