[发明专利]在使用具有预数值孔径控制的照射系统的光刻装置中改善线宽控制的系统和方法有效
| 申请号： | 03122236.6 | 申请日： | 2003-04-23 |
| 公开（公告）号： | CN1453643A | 公开（公告）日： | 2003-11-05 |
| 发明（设计）人： | 斯科特·D·考斯顿;詹姆斯·G·查考耶尼斯 | 申请（专利权）人： | ASML美国公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F7/00;G03F9/00;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 王永刚 |
| 地址： | 暂无信息 | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种在光刻装置中控制线宽变化的系统和方法。照射源发出电磁能量并穿过照射光学组件。照射光学组件包括具有第一和第二光学元件的部分相干性调节组件。第一光学元件，以预定的方式改变入射的电磁能的部分相干性，以补偿水平和垂直线偏移，第二光学元件，改变入射到所述第一光学元件上的电磁能的角分布。使用这两个光学元件一起根据照射场位置改变照射源发出的电磁能的部分相干性，并改善了线宽控制。调节第二光学元件允许校正与时间相关的线宽变化。 | ||
| 搜索关键词： | 使用 具有 数值孔径 控制 照射 系统 光刻 装置 改善 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻系统，包括：照射源；接收所述照射源发出的电磁能的照射光学组件，所述照射光学组件具有部分相干性调节组件，包括：第一光学元件，以预定的方式改变入射的电磁能的部分相干性，以补偿水平和垂直线偏移，以及第二光学元件，改变入射到所述第一光学元件上的电磁能的角分布；设置在所述照射光学组件附近的模板台，其中离开所述照射光学组件的电磁能照射由所述模板台固定的部分模板；晶片台；以及具有所述晶片台附近的成像平面的投影光学组件，所述投影光学组件设置得靠近所述模板台和靠近所述晶片台，其中穿过由所述模板台固定的模板的电磁能将进入投影光学组件，并由所述投影光学组件成像在由晶片台固定的晶片上的光敏基板上。
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