[发明专利]光罩组合及其形成细线图案的曝光方法有效
| 申请号： | 03121435.5 | 申请日： | 2003-03-27 |
| 公开（公告）号： | CN1470943A | 公开（公告）日： | 2004-01-28 |
| 发明（设计）人： | 戴昌铭;张仲兴;游展汶;林本坚 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F1/16 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 马娅佳 |
| 地址： | 台湾省新竹*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明揭露一种光罩组合，包括：一第一光罩，具有平行且交错排列的复数相位0度透光区与复数相位180度透光区；以及一第二光罩，具有一透明基底与一条状遮光层，其中上述条状遮光层覆盖于上述透明基底部分表面，上述条状遮光层的宽度不小于上述相位0度透光区与上述相位180度透光区的间距。本发明亦揭露透过光罩组合曝光以形成细线图案的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 组合 及其 形成 细线 图案 曝光 方法 | ||
【主权项】：
1.一种细线图案的曝光方法，包括：提供一第一光罩，具有平行且交错排列的复数相位0度透光区与复数相位180度透光区；提供一第二光罩，具有一透明基底与一条状遮光层，其中上述条状遮光层覆盖于上述透明基底部分表面，上述条状遮光层的宽度不小于上述相位0度透光区与上述相位180度透光区的间距；以及分别透过上述第一光罩与上述第二光罩，曝光出一第一曝光图案与第二曝光图案，其中上述第一曝光图案具有平行排列的复数明亮区，上述第二曝光图案具有一条状暗区，使上述第一条状暗区呈现于上述相邻明亮区间隔之一之位置。
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