[发明专利]清洗等离子加工装置的方法

摘要

本发明提供一种彻底清洗等离子加工装置中待清洗元件表面上的沉积物的方法，不会有任何已经在待清洗元件表面上形成的阳极涂层或喷雾涂层的损伤。这种清洗方法包括浸入有机溶剂(例如丙酮)的化学清洗步骤(a)；接着吹入压缩空气，以便去除已经由化学处理过的缓冲板(14)脱落的沉积物的步骤(b)；接着，通过采用CO2鼓风装置(105)鼓风物理清除残留在缓冲板(14)边缘的沉积物，和缓冲板(14)浸入纯水(104)，并给予超声振动清除保留在缓冲板(14)上的沉积物的f步骤。

主权项

1.一种通过引入至少含有氟气的加工气体进入该等离子加工衬底室，清洗形成在等离子加工装置内部元件的表面上的沉积物的方法，它依次包括，通过以清洗液接触其上有沉积物的待清洗元件预定时间，化学清除沉积物的化学清洗步骤，然后在所述的化学清洗步骤之后，通过清洗介质鼓风待清洗元件物理除去沉积物的物理清洗步骤。