[发明专利]使用浮球研磨抛光回转体零件的方法及其装置无效
| 申请号： | 03117370.5 | 申请日： | 2003-02-26 |
| 公开（公告）号： | CN1524660A | 公开（公告）日： | 2004-09-01 |
| 发明（设计）人： | 王业明;罗康俊;胡晓东;余波;方针 | 申请（专利权）人： | 中国电子科技集团公司第二十六研究所 |
| 主分类号： | B24B1/00 | 分类号： | B24B1/00 |
| 代理公司： | 重庆创新专利事务所有限公司 | 代理人： | 张先芸 |
| 地址： | 重庆市南坪*** | 国省代码： | 重庆;50 |
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| 摘要： | 使用浮球研磨抛光回转体零件的方法，是在具有盖板的容器中，置入液体和浮球，调节盖板的高度，使浮球全部浸入液体中，并使浮球与零件表面的接触压力改变，从而控制研磨抛光零件的速度；零件固定在转轴上并没入浮球环境中，以浮球作研磨抛光材料，通过转动轴使零件旋转，零件表面和浮球表面相互摩擦实现研磨和抛光。其装置由开口容器、固定零件的转轴、高度可调的盖板和浮球组成，固定零件的转轴和高度可调盖板设在开口容器的上方，容器内盛有液体和附着磨料或抛光料的浮球，转轴由电机带动。本发明具有设备结构简单，投资成本和加工费用比精密磨床加工低，研磨抛光不需要靠模，研磨抛光速度、压力调节方便等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 使用 研磨 抛光 回转 零件 方法 及其 装置 | ||
【主权项】：
1、使用浮球研磨抛光回转体零件的方法，其特征在于：在具有可调节高度盖板的容器中，置入液体和浮球；调节盖板的高度，使浮球全部浸入液体中；零件固定在转轴上并没入浮球环境中，以浮球作研磨抛光材料，通过转动转轴使零件旋转，零件表面和浮球表面相互摩擦实现研磨和抛光。
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