[发明专利]曝光条件确定系统

摘要

在曝光条件确定系统100的数据库10中，储存有关先前进行的曝光工序的信息，包含掩模信息11、曝光机信息12、光刻胶工艺信息13、先前的曝光条件信息14。曝光条件确定部分15根据从数据库10抽出的各种信息及新掩模信息20，按照曝光条件确定程序，确定适合于新掩模的曝光条件，并输出其结果即新掩模的曝光条件21。模拟部分16根据从数据库10抽出的各种信息及新掩模信息20进行光学模拟和显影模拟。通过模拟部分16模拟的结果，在曝光条件确定部分15中确定新掩模的曝光条件21时使用。该曝光条件计算系统不需要繁杂的曝光条件确认作业，就能够获得适合于每台曝光机的个体差异的曝光条件。

主权项

1.一种曝光条件确定系统，其中设有：储存了有关先前曝光的第一信息的数据库；以及基于有关采用新制作的掩模进行曝光的第二信息和所述数据库储存的所述第一信息而确定适合于所述新制作的掩模的曝光条件的曝光条件确定部分。