[发明专利]半导体显示装置及其制造方法和有源矩阵型显示装置无效
| 申请号： | 03101972.2 | 申请日： | 2003-01-30 |
| 公开（公告）号： | CN1435814A | 公开（公告）日： | 2003-08-13 |
| 发明（设计）人： | 佐野景一;山田努 | 申请（专利权）人： | 三洋电机株式会社 |
| 主分类号： | G09G3/32 | 分类号： | G09G3/32 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人： | 戈泊,程伟 |
| 地址： | 暂无信息 | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供半导体显示装置，其制造方法及有源矩阵型显示装置，其目的在于：即使具备通过对遮光层上方的非晶半导体照射雷射以制得多晶半导体的步骤时，亦能保持良好的显示品质。其特征为：在玻璃基板1上形成遮光层2，而在此等玻璃基板1以及遮光层2上，积层形成有氮化硅层3以及氧化硅层4。在此氧化硅层4上形成构成晶体管DTFT的多晶硅层4的非晶硅层。然后，通过对此非晶硅层照射雷射，而形成多晶硅层10。 | ||
| 搜索关键词： | 半导体 显示装置 及其 制造 方法 有源 矩阵 | ||
【主权项】：
1.一种半导体显示装置，是于遮光层上方设置构成驱动组件的多晶半导体层，其中，在所述多晶半导体层以及所述遮光层间具备抑制杂质扩散的阻挡层(blocking)，并且所述多晶半导体层形成在与所述多晶半导体之间的界面能阶较该阻挡层更低的绝缘层上。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三洋电机株式会社，未经三洋电机株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/03101972.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
