[发明专利]光波导路装置及其制造方法和有关相干光源及光学装置有效
| 申请号： | 03101082.2 | 申请日： | 2003-01-09 |
| 公开（公告）号： | CN1433006A | 公开（公告）日： | 2003-07-30 |
| 发明（设计）人： | 横山敏史;水内公典 | 申请（专利权）人： | 松下电器产业株式会社 |
| 主分类号： | G11B7/125 | 分类号： | G11B7/125;G02B6/13 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 马铁良,叶恺东 |
| 地址： | 日本大阪*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 对制造光波导路装置时的光学基片的厚度进行高精度控制。首先在基片2的表面，通过在形成挡块部6的区域(基片2的宽度方向的左右两侧)以外涂布抗蚀剂，进行掩蔽。接下来在基片2的表面，通过对Cr进行溅射蒸镀，形成挡块部6，然后除去抗蚀剂。利用紫外线固化剂3，在基片2表面的左右一对挡块部6之间，贴附Mg掺杂LiNbO3光学基片1。这样一来，把作为非线形光学材料的光学基片1贴合到基片2上后，进行光学基片1的研磨。 | ||
| 搜索关键词： | 波导 装置 及其 制造 方法 有关 相干 光源 光学 | ||
【主权项】：
1.一种包括把光学基片研磨至所需厚度的工序的光波导路装置的制造方法，其特征在于：利用制约上述光学基片厚度的挡块部进行上述光学基片的研磨。
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