[发明专利]含杂环鎓盐无效

专利信息
申请号: 02828462.3 申请日: 2002-10-11
公开(公告)号: CN1622943A 公开(公告)日: 2005-06-01
发明(设计)人: 石原正巳;浦野洋治;高桥昌弘 申请(专利权)人: 和光纯药工业株式会社
主分类号: C07D311/16 分类号: C07D311/16;C07D311/86;C08G59/00;G03F7/004
代理公司: 隆天国际知识产权代理有限公司 代理人: 高龙鑫;王颖
地址: 日本大阪*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明涉及适用于阳离子性光聚合引发剂、化学放大型抗蚀剂用酸发生剂的含杂环鎓盐,提供一种用通式[1](式中,R表示用通式[2]或通式[3]表示的基团)表示的含杂环的锍盐:如右式(1)、(2)或用通式[35]表示的含杂环的鎓盐,如式[35] (式中,R26及R27的至少一种是用上述通式[2]或[3]表示的基团)。
搜索关键词: 含杂环鎓盐
【主权项】:
1.一种通式[1]或[35]表示的含杂环鎓盐,[式中,R表示通式[2]表示的基团或通式[3]表示的基团,(式中,R3及R4分别独立且表示卤原子、可具有卤原子或芳基作为取代基的烷基、或者可具有卤原子或低级烷基作为取代基的芳基,X2表示氧原子或硫原子,i表示0~4的整数,j表示0~3的整数);(式中,R5及R6分别独立并表示卤原子、可具有卤原子或芳基作为取代基的烷基、或者可具有卤原子或低级烷基作为取代基的芳基,X3及X4分别独立且表示氧原子或硫原子,p表示0~2的整数,q表示0~3的整数);R1及R2分别独立且表示卤原子、可具有卤原子或芳基作为取代基的烷基、或者可具有卤原子或低级烷基作为取代基的芳基,m及n分别独立且表示0~5的整数;A表示卤原子、或者来自无机强酸、有机酸或通式[4]表示的化合物的阴离子,HM1(R7)4        [4](式中,M1表示硼原子或镓原子,R7表示可具有选自卤代低级烷基、卤原子、硝基及氰基的取代基的芳基)];[式中,R26及R27分别独立且表示可具有卤原子或低级烷基作为取代基的芳基、上述通式[2]表示的基团或通式[3]表示的基团,A3表示卤原子、或者来自无机强酸、有机酸或通式[4]表示的化合物的阴离子,但是,R26及R27中的至少一种是上述通式[2]或[3]表示的基团,另外,当R26及R27的任意一种中仅有一种是通式[2]或[3]表示的基团时,A3表示来自通式[36]表示的无机强酸、有机酸或通式[4]表示的化合物的阴离子,HM3F6     [36](式中,M3表示磷原子、砷原子或锑原子)]。
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