[发明专利]光学扫描装置无效

专利信息
申请号: 02825406.6 申请日: 2002-12-06
公开(公告)号: CN1605100A 公开(公告)日: 2005-04-06
发明(设计)人: T·W·图克;B·H·W·亨里克斯 申请(专利权)人: 皇家飞利浦电子股份有限公司
主分类号: G11B7/125 分类号: G11B7/125;G02B27/00;G11B7/095
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 邹光新;张志醒
地址: 荷兰艾*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要: 一种光学扫描装置,其利用辐射束(4)扫描信息层(2),该装置包括:用于提供所述辐射束的辐射源(6),用于将所述辐射束转换成所述信息层上的扫描光点(17)的透镜系统(7),以及设置在所述辐射源和所述扫描光点之间的波前修正器。该修正器包括各自具有一个非球面(301b,302a)的两个元件(301,302),并且可以相互线性移动,从而将波前修正引入所述第二辐射束中。根据本发明,将非球面加工定形从而使得:元件(301,302)的第一相互线性位移将第一波前修正(Wa)沿着第一轴线(Xo)引入所述第二辐射束中,并且元件的第二相互线性位移将第二波前修正(Wb)沿着所述第二轴线(Yo)引入所述第二辐射束中。
搜索关键词: 光学 扫描 装置
【主权项】:
1.一种光学扫描装置,其利用辐射束扫描光学记录载体的信息层,该装置包括:用于提供所述辐射束的辐射源,用于将所述辐射束转换成会聚辐射束从而在信息层的位置上形成扫描光点的透镜系统,该透镜系统包括具有光轴的第一物镜,以及设置在所述辐射源和所述扫描光点位置之间、用于将第一辐射束转换成第二辐射束的波前修正器,该波前修正器包括具有第一非球面的第一元件和具有第二非球面的第二元件,所述第一和第二元件可以相互线性移动,从而将波前修正引入所述第二辐射束中,其特征在于将所述第一和第二非球面加工定形,从而使得:所述第一和第二元件沿着第一轴线在第一距离上的第一相互线性位移将第一波前修正沿着所述第一轴线引入所述第二辐射束中,并且所述第一和第二元件沿着不同的第二轴线在第二距离上的第二相互线性位移将第二波前修正沿着所述第二轴线引入所述第二辐射束中。
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