[发明专利]光电二极管有效
申请号: | 02824301.3 | 申请日: | 2002-12-03 |
公开(公告)号: | CN1599962A | 公开(公告)日: | 2005-03-23 |
发明(设计)人: | 石桥忠夫;广田幸弘;村本好史 | 申请(专利权)人: | NTT电子株式会社 |
主分类号: | H01L31/10 | 分类号: | H01L31/10 |
代理公司: | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 方挺;余朦 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 一种光电二极管,其光吸收层由层厚为WD的耗尽的第一半导体光吸收层和层厚为WA的p型中性的第二半导体光吸收层构成,并且WA和WD之比被设定为使光吸收层内的总的载流子渡越时间τtot为最小。此外,在第一半导体光吸收层和n型半导体电极层之间设置具有比第一半导体光吸收层更大的带隙的耗尽的半导体透光层。 | ||
搜索关键词: | 光电二极管 | ||
【主权项】:
1.一种光电二极管,包括依次层叠的n型半导体电极层,由第一半导体光吸收层和具有p型的第二半导体光吸收层构成的光吸收层,p型半导体电极层,以及在上述n型半导体电极层上设置的n型电极和在上述p型半导体电极层上设置的p型电极;在上述n型电极和p型电极之间施加预定的反向偏压时,上述第一半导体光吸收层被耗尽,并且上述第二半导体光吸收层的除了与上述第一半导体光吸收层的交界面附近区域之外的区域成为中性区域,其特征在于,在由上述第一半导体光吸收层的层厚(WD)和上述第二半导体光吸收层的层厚(WA)之和(W=WD+WA)所确定的预定厚度的上述光吸收层内,当上述第一半导体光吸收层的层厚为WD-ΔW,上述第二半导体光吸收层的层厚为WA+ΔW时,WD与WA之比被设定为使上述第一半导体光吸收层内的空穴的渡越时间的减少值(-ΔτD)和上述第二半导体光吸收层内的电子渡越时间增加值(ΔτA)的关系为|ΔτA|=|-ΔτD|。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
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