[发明专利]包括动态参考层之磁阻记忆胞元无效

专利信息
申请号: 02823929.6 申请日: 2002-11-25
公开(公告)号: CN1599937A 公开(公告)日: 2005-03-23
发明(设计)人: J·班格特 申请(专利权)人: 因芬尼昂技术股份公司
主分类号: G11C11/16 分类号: G11C11/16;G11C11/15
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 张雪梅;张志醒
地址: 德国*** 国省代码: 德国;DE
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摘要: 本案系关于一种配置,其系用于增加一磁阻记忆胞元(17)阻值之相对变化,该磁阻记忆胞元(17)于备情形皆具有一记忆层(1)与一参考层(3)于一信道阻障(2)之两侧,该参考层(3)系被形成为一磁性软层,且其磁化作用可受存写操作影响,且藉由一参考备援场或一参考磁化作用电流(11),其可被再次定方位。
搜索关键词: 包括 动态 参考 磁阻 记忆
【主权项】:
1.一配置,用于一半导体装置中增加一磁阻记忆胞元(17)之阻值差,其中该磁阻记忆胞元(17)于各情形皆具有一记忆层(1)与一参考层(3)于一信道阻障(2)之两侧,其系于一第一磁化作用态与一第二磁化作用态之间,在该第一磁化作用态中,关于该参考层(3)之一参考磁化作用(8),该记忆层(1)之一磁化作用(7)系为单向,在该第二磁化作用态中,关于该参考磁化作用(8),该磁化作用(7)系为相反方位,其特征在于该参考层(3)系被形成为一磁性软层且具有一高旋转极化作用,在该记忆层(1)之该磁化作用(7)之改变中,可允许该参考层(3)之该磁化作用之偏移或改变,在该记忆层(1)之该磁化作用(7)未改变方位之所给定的该磁阻记忆胞元(17)上,至少下一读取操作之前,该参考层(3)之该磁化作用之该方位可被再次设定于该参考磁化作用(8)之该方向中。
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