[发明专利]用于原子层淀积的气体输送装置有效

专利信息
申请号: 02823903.2 申请日: 2002-10-25
公开(公告)号: CN1774525A 公开(公告)日: 2006-05-17
发明(设计)人: 陈岭;古文忠;吴典晔;仲华;艾伦·奥耶;诺尔曼·中岛;张镁 申请(专利权)人: 应用材料有限公司
主分类号: C23C16/455 分类号: C23C16/455
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 寇英杰
地址: 美国加*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 一种用于实施循环层淀积法,如原子层淀积的装置和方法。在一种情况下,装置包括一个衬底支承件和一个室盖,上述衬底支承件具有一个接收衬底的表面,而上述室盖包括一个锥形通道和一个底部表面,上述锥形通道从室盖的中央部分延伸,而上述底部表面从通道延伸到室盖的周边部分,底部表面加工成一定的形状和尺寸,以便基本上盖住接收衬底的表面。装置还包括一个或多个阀和一个或多个气源,上述一个或多个阀连接到逐渐扩张的通道上,而上述一个或多个气源连接到每个阀上。
搜索关键词: 用于 原子 层淀积 气体 输送 装置
【主权项】:
1.一种室,其包括:一个衬底支承件,所述衬底支承件具有一个接收衬底的表面;一个室盖,所述室盖包括一个逐渐扩展的通道和一个底部表面,上述逐渐扩展的通道从室盖的中央部分向下延伸,而上述底部表面从通道延伸到室盖的周边部分,底部表面加工成一定形状和尺寸,以便基本上盖住接收衬底的表面;一个或多个阀,上述一个或多个阀与逐渐扩展的通道成流体连通;及一个或多个气源,上述一个或多个气源与每个阀成流体连通。
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