[发明专利]用来形成光记录媒体保护膜的溅射靶和该靶的制造方法以及用该靶形成保护膜的光记录媒体有效
| 申请号： | 02821603.2 | 申请日： | 2002-08-27 |
| 公开（公告）号： | CN1578850A | 公开（公告）日： | 2005-02-09 |
| 发明（设计）人： | 矢作政隆;高见英生 | 申请（专利权）人： | 株式会社日矿材料 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;G11B7/24;G11B7/26 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 樊卫民;郭国清 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及用来形成光记录媒体保护膜的溅射靶，在由硫化锌和硅氧化物的复合体构成的溅射靶中，其特征在于：该靶中含有的卤化物或卤元素中的至少一种以上的总量换算为卤素时在30ppm以下。能稳定而低成本地制造出具有微细结晶粒，具有97％以上的高密度的用来形成晶相变化型光记录媒体保护膜的靶的同时，通过防止或抑制该靶上的色斑等变色，使成品率提高，并通过使用该溅射靶进行溅射使光记录媒体的质量提高。 | ||
| 搜索关键词： | 用来 形成 记录 媒体 保护膜 溅射 制造 方法 以及 | ||
【主权项】：
1.一种用来形成光记录媒体保护膜的溅射靶，在由硫化锌和硅氧化物的复合体构成的溅射靶之中，其特征在于：该靶中含有的卤化物或卤元素中的至少一种以上的总量换算为卤元素时在30ppm以下。
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