[发明专利]光学元件及其制造方法无效
| 申请号： | 02820536.7 | 申请日： | 2002-10-17 |
| 公开（公告）号： | CN1571941A | 公开（公告）日： | 2005-01-26 |
| 发明（设计）人： | 榊原阳一;德本圆;辰浦智;阿知波洋次;片浦弘道 | 申请（专利权）人： | 独立行政法人产业技术综合研究所 |
| 主分类号： | G02F1/361 | 分类号： | G02F1/361;G02F1/35;G02B5/08;G11B7/24;G11B7/26 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 | 代理人： | 杨宏军 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及一种光学元件及其制造方法。本发明的光学元件具有单层碳纳米管层合而成的薄膜并且利用其可饱和吸收功能。另外，本发明的光学元件制造方法为：使碳纳米管分散在分散介质中，调制成分散液，将该分散液喷涂在被涂物上形成薄膜。由此能够提供一种在通信波长区域内可操作且成本极低的高效率非线性光学元件及其制造方法。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 元件 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1、一种光学元件，其特征在于，所述光学元件具有单层碳纳米管层合而成的薄膜，且利用了其可饱和吸收功能。
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