[发明专利]沉积材料层的方法无效
| 申请号： | 02819959.6 | 申请日： | 2002-09-24 |
| 公开（公告）号： | CN1568376A | 公开（公告）日： | 2005-01-19 |
| 发明（设计）人： | L－Y·陈;D·A·卡尔;I·拜恩格拉斯 | 申请（专利权）人： | 应用材料有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人： | 赵蓉民 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种在衬底上形成具有高高宽比部件的层的方法。由包括一种或多种工艺气体和一种或多种蚀刻物质的气体混合物形成该层。一种或多种工艺气体反应在衬底上沉积材料层。结合材料层的沉积，蚀刻物质选择性地去除邻近高高宽比部件开口沉积的材料层的部分，以无空隙和/或无缝隙的方式填充该部件。可以利用物理气相沉积(PVD)和/或化学气相沉积(CVD)技术在衬底上沉积该材料层。 | ||
| 搜索关键词： | 沉积 材料 方法 | ||
【主权项】：
1、一种薄膜沉积方法，包括：将具有高高宽比部件的衬底放置在沉积室中；向所述沉积室提供气体混合物，其中所述气体混合物包括一种或多种工艺气体和一种或多种蚀刻物质；以及在所述衬底上沉积材料层，其中所述气体混合物中的所述蚀刻物质选择性地去除邻近所述高高宽比部件沉积的所述材料层的部分。
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