[发明专利]光学扫描装置无效
| 申请号： | 02818427.0 | 申请日： | 2002-09-19 |
| 公开（公告）号： | CN1556985A | 公开（公告）日： | 2004-12-22 |
| 发明（设计）人： | J·E·德维里斯;B·H·W·肯德里克斯 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
| 主分类号： | G11B7/135 | 分类号： | G11B7/135;G11B7/125 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 邹光新;梁永 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 在第一模式和第二模式中分别扫描第一类型(13)和第二类型(27)记录载体的光学扫描装置，包含辐射生成装置(1、20)，用于在第一模式中生成至少具有第一波长的辐射光束(2、21)和在第二模式中生成至少具有第二波长的辐射光束。该装置还包含物镜系统(11)，用于在第一模式中将具有第一波长的辐射光束(2)聚焦(16)在第一类型的记录载体上，在第二模式将具有第二波长的辐射光束(21)聚焦(30)在第二类型的记录载体(27)上。该光学扫描装置还包含位于辐射光束(2、21)中的具有结构的光学元件(10)，用于将聚散度和像差引入第二波长的辐射光束(21)中。该像差能被写成至少具有两个项a2 2和a4 4的多项式。若a2＝0且a4＝0，则相应的a4和a2的值分别由a40和a20给出。a2、a4、a20和a40满足关系式0.9＜((a2/a20)+(a4/a40))＜1.1，和0.20＜(a2/a20)＜0.9(若a4＜0)，或满足关系式1.05＜(a2/a20)＜2.00(若a4＞0)。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 扫描 装置 | ||
【主权项】：
1.一种用于在第一模式和第二模式中分别扫描第一类型(13)和第二类型(27)记录载体的光学扫描装置，该装置包含：用于在第一模式中生成至少具有第一波长的辐射光束(2、7、21、25)和在第二模式中生成至少具有第二波长的辐射光束(2、7、21、25)的辐射生成装置(1、20)；物镜系统(11)，用于在第一模式中将具有第一波长的辐射光束(2、7)在第一类型记录载体(13)上形成一聚焦点(16)，在第二模式中将具有第二波长的辐射光束(21、25)在第二类型记录载体(27)上形成一聚焦点(30)；结构化光学元件(10)，该结构化光学元件(10)与物镜系统的元件相分离地设置在辐射光束(2、7、21、25)中，用于将像差引入具有第二波长的辐射光束(25)中；其特征在于，用于第二波长的分离的结构化光学元件(10)所引入的像差既包含聚散度变化又包含球差。
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