[发明专利]图像投影装置和方法无效
| 申请号: | 02815709.5 | 申请日: | 2002-07-08 |
| 公开(公告)号: | CN1541483A | 公开(公告)日: | 2004-10-27 |
| 发明(设计)人: | 尤瓦尔·卡佩尔纳;莎伦·卡佩尔纳;伊扎克·波梅兰茨;泽夫·扎莱夫斯基;埃兰·沙博 | 申请(专利权)人: | 以克斯普雷有限公司 |
| 主分类号: | H04N9/31 | 分类号: | H04N9/31 |
| 代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人: | 李辉 |
| 地址: | 以色列*** | 国省代码: | 以色列;IL |
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| 摘要: | 本发明提供一种图像投影装置和方法。该装置包括:一光源系统,可操作地产生一光束,以投射至由SLM像素装置所形成的空间光调制器(SLM)单元的有源表面上;以及一个设置在SLM单元输出侧的放大光学器件。投射至SLM像素装置上的光束具有一个预定的横截面,其与所述有源表面的大小相对应。该SLM单元包括第一和第二透镜阵列,分别位于像素装置的两相对侧,使得第一阵列中的每个透镜和在第二阵列中的相应的相对透镜与SLM像素中的一个对应像素相关联。 | ||
| 搜索关键词: | 图像 投影 装置 方法 | ||
【主权项】:
1.具有预定横截面的入射光束,该入射光束入射到空间光调制(SLM)单元的有源表面上,该SLM单元是由SLM像素装置形成的,入射光束的所述预定横截面对应于所述有源表面的大小;和设置在该SLM单元的输出侧的放大光学器件;该装置的特征在于,所述SLM单元包括第一和第二透镜阵列,分别位于该SLM像素装置的相对两侧,使得第一阵列中的每个透镜和第二阵列中的对应的相对透镜与SLM像素中的一个对应像素相关联。
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