[发明专利]引入阴离子和阳离子基团的染料

摘要

本发明涉及右式新型化合物，其中A，D₁，D₂，R₁和n的定义如说明书中所述，所述化合物是内或外盐形式，或化合物(1)和(2)的混合物，一种用于其制备的方法和用于染色纸的包含它们的制剂。

主权项

1.下式化合物或其中A表示未取代的或被单个羟基，卤素，氨基，硝基，C₁-C₄烷基，C₁-C₄烷氧基，C₂-C₄羟基烷氧基，COOC₁-C₄烷基或NHCOC₁-C₄烷基取代的苯磺酸残基，未取代的或被一个或多个羟基，卤素，氨基，硝基，C₁-C₄烷基，C₁-C₄烷氧基，C₂-C₄羟基烷氧基，COOC₁-C₄烷基或NHCOC₁-C₄烷基取代的苯甲酸残基，未取代的或被一个或多个羟基，卤素，氨基，硝基，C₁-C₄烷基，C₁-C₄烷氧基，C₂-C₄羟基烷氧基，COOC₁-C₄烷基或NHCOC₁-C₄烷基取代的萘磺酸残基或未取代的或被一个或多个羟基，卤素，氨基，硝基，C₁-C₄烷基，C₁-C₄烷氧基，C₂-C₄羟基烷氧基，COOC₁-C₄烷基或NHCOC₁-C₄烷基取代的萘甲酸残基；D₁和D₂，独立地表示i)下式残基-NR₁BX  (3)，其中B表示可被一个杂原子间断，这样C₃-C₈亚烷基是支化的或未支化的C₂-C₈亚烷基桥，被一个或多个羟基取代的C₂-C₆亚烷基桥，C₁-C₆亚烷基-1，3-或-1，4-亚苯基桥或1，3-或-1，4-亚苯基桥；R₁表示氢或未取代的或被羟基，卤素，氰基或C₁-C₄烷氧基单取代的C₁-C₄烷基；X是式-NR₂R₃的基团，其中R₂和R₃，独立地，表示氢，C₁-C₄烷基，被羟基或被氰基单取代的C₂-C₆烷基，苯基或C₁-C₄烷基苯基，因此后两个基团的苯基环是未取代的或被最高三个选自羟基，卤素，C₁-C₄烷基和C₁-C₄烷氧基取代的或，另外，R₂和R₃与它们所连接的氮原子一起组成一个可包含，除了氮原子之外，一个氮或氧原子和可进一步被取代的饱和，5-或6-元环或，另外，X是式-N⁺R₄R₅R₆的基团，其中R₄，R₅和R₆分别，独立地，表示C₁-C₄烷基，被羟基或被氰基单取代的C₂-C₆烷基，苯基或C₁-C₄烷基苯基，因此后两个基团的苯基环是未取代的或被最高三个选自羟基，卤素，C₁-C₄烷基和C₁-C₄烷氧基的基团取代或，ii)另外，D₁和D₂独立地表示通过一个氮原子连接到三嗪环上的5-或6-元，饱和杂环，所述环可包含，除了氮原子之外，一个其它的氮或氧原子和可进一步被取代，这样氮原子可被残基R₄季铵化，R₄定义如上，和n是0或1，所述化合物是内或外盐形式，或化合物(1)和(2)的混合物。