[发明专利]插入损耗低的单模聚合物波导的设计方法无效
| 申请号: | 02813455.9 | 申请日: | 2002-04-04 |
| 公开(公告)号: | CN1522376A | 公开(公告)日: | 2004-08-18 |
| 发明(设计)人: | K·R·巴特尔;P·M·费尔姆;L·W·沙克莱特 | 申请(专利权)人: | 纳幕尔杜邦公司 |
| 主分类号: | G02B6/10 | 分类号: | G02B6/10 |
| 代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 钟守期;庞立志 |
| 地址: | 美国特*** | 国省代码: | 美国;US |
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| 摘要: | 本发明提供了有机光波导器件,它是通过光刻法形成的并且采用了传播损耗低的聚合物材料。光波导具有基底(2);处于基底表面上的聚合物缓冲体层(4);处于缓冲体层表面上薄的聚合物下包覆体层(6);处于下包覆体层表面上的透光性芯体聚合物图案(8),以及处于芯体顶表面和芯体侧壁上以及一部分下包覆体层上的聚合物上包覆体层(10),下包覆体层的厚度是芯体厚度的约10%~约50%。芯体的折射率nc大于上包覆体层的折射率no,而且也大于下包覆体层的折射率nu;其中Δn=nc-no,并且其中nc与缓冲体折射率nb之差至少为Δn的约1.5倍。 | ||
| 搜索关键词: | 插入损耗 单模 聚合物 波导 设计 方法 | ||
【主权项】:
1.在基底上制造的单模光波导,该基底形成表面,该单模光波导包含:处于基底表面上的聚合物缓冲体层,缓冲体层形成表面而且其折射率为nb;处于缓冲体层表面上的薄的聚合物下包覆体层,下包覆体层形成表面而且其折射率层为nu;处于下包覆体层表面上的透光性单模聚合物芯体图案,芯体形成顶表面和侧壁而且芯体的折射率为nc;以及处于芯体顶表面和芯体侧壁以及一部分下包覆体层上的聚合物上包覆体层,而且其折射率为no;下包覆体层的厚度是芯体厚度的约10%~约50%;其中芯体的折射率nc大于上包覆体层的折射率no,而且也大于下包覆体层的折射率nu;其中Δn=nc-no,并且其中nc与缓冲体折射率nb 之差至少是Δn的约1.5倍,并且其中Δn的值在光学通讯波长处产生单模波导。
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