[发明专利]基材处理的方法和装置无效
| 申请号： | 02811250.4 | 申请日： | 2002-06-04 |
| 公开（公告）号： | CN1533445A | 公开（公告）日： | 2004-09-29 |
| 发明（设计）人： | H·库尔廷斯 | 申请（专利权）人： | 瑞士－普拉斯股份有限公司;赫伯特M·加百利 |
| 主分类号： | C23C14/32 | 分类号： | C23C14/32;H01J37/32 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 赵辛 |
| 地址： | 瑞士*** | 国省代码： | 瑞士;CH |
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| 摘要： | 本发明涉及一种在电弧汽化装置(10)中处理基材(20)的方法和装置。在电弧汽化装置(10)中，强度I的弧电流在阳极和作为阴极的金属靶(14，16，18)之间的抽真空室(12)内流动。所述的弧电流常用于汽化靶材料以制造金属离子密度。本发明的目的在于处理基材(20)而不导致不符合要求的升温。结果是，每个靶(14，16，18)的金属离子密度至少部分覆盖了靶，所述金属离子密度能有效地用于处理基材。 | ||
| 搜索关键词： | 基材 处理 方法 装置 | ||
【主权项】：
1、在电弧汽化装置(10)中基材(20)的处理方法，如蚀刻，在此装置中，用于汽化靶材料和产生金属离子密度的强度I的弧电流在阳极和作为阴极的金属靶(14，16，18，40)之间抽真空的空间(12)内流动，其特征在于，通过靶(14，16，18，40)的至少部分遮盖而调整用于基材(20)处理的每个靶上有效的金属离子密度。
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