[发明专利]基底的处理有效
| 申请号： | 02811178.8 | 申请日： | 2002-07-25 |
| 公开（公告）号： | CN1513052A | 公开（公告）日： | 2004-07-14 |
| 发明（设计）人： | P·佩古森;P·H·芬德莱;C·C·琼斯;D·库库尔 | 申请（专利权）人： | 荷兰联合利华有限公司 |
| 主分类号： | C11D3/22 | 分类号： | C11D3/22 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 邹雪梅;段晓玲 |
| 地址： | 荷兰*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种水分散性颗粒，其中该物质包括：(i)具有平均重复单元(I)的一种或多种聚合沉积物质：其中聚合物的至少一个或多个R基团独立地选自H，可水解基团或连接基团，其中当R是可水解基团时，取代度是0到3，且当R是连接基团时，取代度是0.01到3；(ii)与沉积增强部分相连的有益试剂；其特征在于水分散性颗粒具有的颗粒尺寸为20到5000纳米。 | ||
| 搜索关键词： | 基底 处理 | ||
【主权项】：
1.一种水分散性颗粒，其中该物质包括：i)具有平均重复单元(I)的一种或多种聚合沉积物质：![]()
其中聚合物的至少一个或多个R基团独立地选自H，可水解基团或连接基团，其中当R是可水解基团时，取代度是0到3，且当R是连接基团时，取代度是0.01到3；ii)与沉积增强部分相连的有益试剂；其特征在于水分散性颗粒具有的颗粒尺寸为20到5000纳米。
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