[发明专利]光学记录和 /或再现装置、光学再现装置、光学记录和 /或再现介质、光学记录和 /或再现方法、光学记录方法、无效
| 申请号： | 02809254.6 | 申请日： | 2002-03-14 |
| 公开（公告）号： | CN1511319A | 公开（公告）日： | 2004-07-07 |
| 发明（设计）人： | 久米英广;新谷贤司;吉田忠雄 | 申请（专利权）人： | 索尼公司 |
| 主分类号： | G11B11/08 | 分类号： | G11B11/08;G11B9/02 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 郭定辉;黄小临 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 通过在相位上比较光谐波与例如布置在不同于记录和/或再现构件的光径上的统一偏振基准构件中所产生的另一光谐波，检测残余偏振方向所对应的光谐波相差。前一光谐波是通过将信号作为残余偏振记录在铁电记录和/或再现构件上并且以再现光通量照射该构件来产生的。利用传统光学记录和/或再现技术，以使得光学记录和/或再现构件作为多层介质的可利用性高。因此，容易倍增光学记录和/或再现层，并且显著增大记录容量。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 记录 再现 装置 介质 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光学记录和/或再现装置，包括：台架，用于在其上安置光学记录和/或再现介质，所述光学记录和/或再现介质包括电光学材料层，在其中施加电场时可以改变偏振方向和残留并且以光照射时产生光谐波，以及布置在所述电光学材料层的前后表面上的电极层；光源，用于将光照射到安置在所述台架上的所述光学记录和/或再现介质上；电压施加部件，用于将电压施加于安置在所述台架上的所述光学记录和/或再现介质的所述电极层之间；以及检测部件，用于检测从安置在所述台架上的所述光学记录和/或再现介质产生的光谐波的相位。
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