[发明专利]自支撑反应器内部有效
| 申请号： | 02805775.9 | 申请日： | 2002-02-25 |
| 公开（公告）号： | CN1501835A | 公开（公告）日： | 2004-06-02 |
| 发明（设计）人： | 巴斯蒂安·W·范哈塞尔特;巴斯蒂安·L·J·P·基克特;查尔斯·E·D·奥韦尔克尔克;亨里克斯·G·范希;阿里·德斯奈耶 | 申请（专利权）人： | 国际壳牌研究有限公司 |
| 主分类号： | B01J8/00 | 分类号： | B01J8/00;B01J8/02;B01J8/04;B01D3/00;B01D3/32 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 朱德强 |
| 地址： | 荷兰*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明涉及一种反应器内部，其包括一个基本上水平的下支承格栅，和选自一个分布盘和用于分布一急冷流体的装置的至少一个分布装置，该分布装置位于下支承格栅的上方，并且通过垂直延伸的支腿与下支承格栅相连并且与下支承格栅分隔开。本发明还涉及一种反应器内部(6)，其包括一个下支承格栅(7)和一个上支承格栅(19)，和一个分布装置(8，20)，其中支承格栅(7，19)通过垂直延伸的支腿(21)相互连接并且彼此分隔开。本发明还涉及一种包括这样的内部的反应器，以及涉及在碳氢化合物加工的过程中对这样的反应器的使用。 | ||
| 搜索关键词： | 支撑 反应器 内部 | ||
【主权项】：
1.一种反应器内部，包括一个基本上水平的下支承格栅，和选自一个分布盘和用于分布一急冷流体的装置的至少一个分布装置，该分布装置位于下支承格栅的上方，并且通过一个以上的垂直延伸的支腿与下支承格栅相连并且与下支承格栅分隔开。
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