[发明专利]一种光学效用层系统的制造方法和装置有效
| 申请号： | 02804913.6 | 申请日： | 2002-06-28 |
| 公开（公告）号： | CN1491296A | 公开（公告）日： | 2004-04-21 |
| 发明（设计）人： | F·布雷梅 | 申请（专利权）人： | 萨蒂斯真空工业销售股份公司 |
| 主分类号： | C23C14/50 | 分类号： | C23C14/50;C23C14/56;C23C14/06;C23C14/08;G02B1/10 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 苏娟;赵辛 |
| 地址： | 瑞士库*** | 国省代码： | 瑞士;CH |
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| 摘要： | 本发明涉及一种方法和一种装置，用于在具有第一面(1a)和第二面(1b)的基片(1)上制造一种光学效用的层系统(3)，为此采用等离子体支持的固体靶雾化工艺(喷涂)。为了减小对反面的损害，在基片的正面(1a)上淀积层系统(3)之前，在基片的反面(1b)上喷涂一保护层(2)或者使用一种业已涂有保护层(2)的基片。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光学 效用 系统 制造 方法 装置 | ||
【主权项】：
1.采用等离子体支持的固体靶雾化(喷涂)工艺一个基片(1)上制造一种光学效用层系统(3)的方法，该基片在具有一个第一面(1a)和一个第二面(1b)，其特征在于：在基片(1)的第二面(1b)上喷涂一保护层(2)，或者使用业已涂有保护层(2)的基片(1)；在基片的第一面(1a)上喷涂出层系统(3)。
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