[发明专利]曝光装置、曝光法和器件制造法

摘要

在掩模台(RST)上固定一个其上形成有至少一个针孔状图案的基准板(RFM)，掩模台(RST)上固持地移动掩模(R)。因此，例如可以不用任何特殊类型的测量用掩模，通过把连结型波前测量仪(80)设置到衬底台(WST)上、利用照明系统(IOP)照射基准板并利用波前测量仪接收通过投影光学系统在针孔状图案处产生的球面波，来测量投影光学系统(PL)的波前象差。因此，可以以理想的计时很容易地测量投影光学系统的波前象差，这使得能够对投影光学系统进行充分地质量控制。因此，可以利用进行了充分地质量控制的投影光学系统把掩模图案精确地转印到衬底上。

主权项

1.一种曝光设备，通过照明系统发出的曝光照射光束对其上形成有一个图案的掩模进行照射，并通过投影光学系统将所述图案转印到衬底上，所述曝光设备包括：一个掩模台，固持地移动掩模；一个固定在掩模台上的图案板，图案板上至少形成有一个针孔状孔径图案；和一个衬底台，固持地移动衬底。