[发明专利]含碱金属的抛光系统及方法无效
| 申请号： | 02803726.X | 申请日： | 2002-01-14 |
| 公开（公告）号： | CN1610730A | 公开（公告）日： | 2005-04-27 |
| 发明（设计）人： | 菲利普·卡特;格雷戈里·H·博古什;弗朗西斯科·德里奇塞索罗;戴维·J·施罗德;杰弗里·P·张伯伦;布赖恩·L·米勒 | 申请（专利权）人： | 卡伯特微电子公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;H01L21/00;H01L21/321;H01L21/306 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 范明娥;张平元 |
| 地址： | 美国伊*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明提供一种抛光系统，包含(a)一液态载体、(b)一种碱金属离子、(c)含氨基及至少一个极性部分的化合物，其中极性部分含有至少一个氧原子和(d)一个抛光垫及/或磨料，其中该系统的总离子浓度高于临界凝结浓度。本发明也提供一种平面化或抛光复合基材的方法，包含将该基材与前述的抛光系统或一种下列抛光系统接触，该系统包含(a)一液态载体、(b)一种碱金属离子、(c)含有一个氨基及至少一个极性部分的化合物，其中该极性部分含有至少一个氧原子，和(d)一个抛光垫及/或磨料；并在制备抛光系统后约6小时或更少时间内抛光至少部分基材。 | ||
| 搜索关键词： | 碱金属 抛光 系统 方法 | ||
【主权项】：
1.一种抛光基材的方法，包含将该基材表面与下列抛光系统接触，该系统包含：(a)一种液态载体、(b)一种碱金属离子、(c)包含一个氨基及至少一个极性部分的化合物，其中该极性部分含有至少一个氧原子，(d)一个抛光垫及/或磨料；并且在制备抛光系统后约6小时或更少时间内进行抛光至少部分基材。
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