[发明专利]半导体装置无效

专利信息
申请号: 02803195.4 申请日: 2002-01-28
公开(公告)号: CN1488172A 公开(公告)日: 2004-04-07
发明(设计)人: 新田哲也;凑忠玄 申请(专利权)人: 三菱电机株式会社
主分类号: H01L29/06 分类号: H01L29/06;H01L29/78;H01L29/861
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 刘宗杰;叶恺东
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明的半导体装置,在半导体衬底(1)内,有反复重复地构成互相连接形成pn结的n型扩散区(3)和p型扩散区(4)被槽(1a)夹在中间的单元结构,给各单元结构内的n型扩散区(3)的杂质量和p型扩散区(4)的杂质量被设定得不等(不同)。因此,在有槽(1a)的半导体装置中能兼顾良好的耐压和雪崩破坏承受能力。
搜索关键词: 半导体 装置
【主权项】:
1.一种半导体装置,它是在第一导电型的半导体衬底(1)内,有反复重复地构成的以下结构:互相连接形成pn结的第一导电型的第一杂质区(3)和第二导电型的第二杂质区(4)被槽(1a)夹在中间的单元结构,其特征在于:各上述单元结构内的上述第一杂质区(3)的杂质量和上述第二杂质区(4)的杂质量不等。
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