[发明专利]覆膜的形成方法及装置无效
| 申请号： | 02802314.5 | 申请日： | 2002-05-30 |
| 公开（公告）号： | CN1464917A | 公开（公告）日： | 2003-12-31 |
| 发明（设计）人： | 筏井正博;荻野悦男 | 申请（专利权）人： | 日本板硝子株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/50 | 分类号： | C23C14/50;G02B5/08;G02B1/10;H01B13/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 张会华 |
| 地址： | 暂无信息 | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 从基板2开始隔开规定的距离间隔配置蒸发源3，使基板2一边公转，一边将覆膜原料从蒸发源3涂敷到前述基板表面时，通过在其弹性范围内使前述基板2弯曲所得到的基板2的曲率半径在与前述基板2的公转半径一致的状态下，在基板表面形成覆膜，从而可以简便地改善在覆膜的形成方法中的基板的公转方向所产生的覆膜分布。 | ||
| 搜索关键词： | 形成 方法 装置 | ||
【主权项】：
1.一种覆膜的形成方法，从一个以上的基板开始隔开规定的距离间隔配置蒸发源，以蒸发源为中心使基板一边公转，一边将来自蒸发源的覆膜原料涂敷到前述基板表面，其特征在于，使在其弹性范围内将前述基板弯曲所得到的基板的曲率半径与以蒸发源为中心使基板公转的基板的公转半径略一致的状态下，将来自蒸发源的覆膜原料涂敷到基板表面而形成覆膜。
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