[发明专利]石英玻璃元件和投影曝光装置有效
| 申请号： | 02801814.1 | 申请日： | 2002-04-19 |
| 公开（公告）号： | CN1463256A | 公开（公告）日： | 2003-12-24 |
| 发明（设计）人： | 小峰典男;吉田明子;神保宏树;藤原诚志 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | C03C3/06 | 分类号： | C03C3/06;G02B1/00;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 李德山 |
| 地址： | 暂无信息 | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明的石英玻璃元件是其中当其组成被表示为SiOx时，x不小于1.85，不大于1.95，其中其所包含的氢分子的浓度不小于1×1016分子/cm3，不大于5×1018分子/cm3，并且其中用1×104个ArF准分子激光脉冲、平均一个脉冲能量密度为2mJ/cm2照射结束之前立即测得的吸收系数A，与用该ArF准分子激光照射停止之后600秒的第二吸收系数B之间的差A－B，不大于0.002cm－1。当将该石英玻璃元件应用于投影曝光装置中的照明光学系统和/或投影光学系统时，能够实现均匀曝光，同时减小掩模原版表面以及晶片上曝光区域中的照度改变。 | ||
| 搜索关键词： | 石英玻璃 元件 投影 曝光 装置 | ||
【主权项】：
1.一种石英玻璃元件，其中当其组成被表示为SiOx时，x不小于1.85，不大于1.95，其中其所包含的氢分子的浓度不小于1×1016分子/cm3，不大于5×1018分子/cm3，并且其中用1×104个ArF准分子激光脉冲、平均一个脉冲能量密度为2mJ/cm2照射结束之前立即测得的吸收系数A，与用该ArF准分子激光照射停止之后600秒的吸收系数B之间的差A-B，不大于0.005cm-1。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社尼康，未经株式会社尼康许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/02801814.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
