[发明专利]全氟化碳的生产方法及其用途有效

专利信息
申请号: 02800404.3 申请日: 2002-02-21
公开(公告)号: CN1457332A 公开(公告)日: 2003-11-19
发明(设计)人: 大野博基;大井敏夫 申请(专利权)人: 昭和电工株式会社
主分类号: C07C19/08 分类号: C07C19/08;C07C17/10;C09K13/08;C23G5/028
代理公司: 北京市中咨律师事务所 代理人: 隗永良,刘金辉
地址: 暂无信息 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明生产全氟化碳方法的特征在于,在通过有机化合物与氟气接触生产全氟化碳的过程中,有机化合物与氟气在200-500℃温度范围内接触,同时反应体系内的氧气含量被控制在基于反应原料中气体成分的2%(体积)或更低,因而生产出降低了杂质含量的全氟化碳。根据本发明生产全氟化碳的方法,可以得到极度抑制了例如含氧化合物等杂质产生的高纯度全氟化碳。通过本发明方法获得的全氟化碳基本不含有含氧化合物,因此可以在半导体装置生产方法中有效地用作蚀刻或清洁气体。
搜索关键词: 氟化 生产 方法 及其 用途
【主权项】:
1.一种生产全氟化碳的方法,包括,在以有机化合物和氟气为反应起始原料的生产全氟化碳的过程中,使所述有机化合物与所述氟气在200-500℃接触,同时将反应体系内的氧气含量控制在基于原料气体成分的2%(体积)或更低的范围内,生产降低了杂质含量的全氟化碳。
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