[实用新型]用于镭射压印转移的双向拉伸聚丙烯基膜无效
| 申请号： | 02228079.0 | 申请日： | 2002-01-11 |
| 公开（公告）号： | CN2602928Y | 公开（公告）日： | 2004-02-11 |
| 发明（设计）人： | 栾德海;江畅;陈德超;褚峰林 | 申请（专利权）人： | 中包云梦塑料薄膜厂 |
| 主分类号： | B32B27/32 | 分类号： | B32B27/32 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 432500湖*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及用于镭射压印转移的双向拉伸聚丙烯基膜。基膜由上表层、芯层、下表层构成，上表层、芯层、下表层通过热熔共挤成为一体。下表层为转移层。基膜的上表层、下表层的厚度分别为基膜厚度的10％－12％。本实用新型的优点是，由于它结构合理，设计新颖，可以直接进行镭射压印转移。本实用新型不但可以满足用户所要求的镭射效果、蒸镀效果和转移效果，同时大大降低了产品的成本。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 镭射 压印 转移 双向 拉伸 聚丙烯 | ||
【主权项】：
1、用于镭射压印转移的双向拉伸聚丙烯基膜，其特征在于，基膜由上表层(1)、芯层(2)、下表层(3)构成，芯层(2)位于上表层(1)、下表层(3)之间，下表层(3)为转移层。
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