[发明专利]一种铁磁/锰系反铁磁多层膜钉扎材料及其制备方法无效
| 申请号： | 02157977.6 | 申请日： | 2002-12-20 |
| 公开（公告）号： | CN1510701A | 公开（公告）日： | 2004-07-07 |
| 发明（设计）人： | 代波;蔡建旺;赖武彦 | 申请（专利权）人： | 中国科学院物理研究所 |
| 主分类号： | H01F10/00 | 分类号： | H01F10/00;H01L43/00;B32B5/00;B32B33/00 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人： | 王凤华 |
| 地址： | 100080北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种铁磁/锰系反铁磁多层膜钉扎材料及其制备方法，该钉扎材料包括一基片和在基片上设置的一缓冲层、一第二铁磁层及设在其上的一保护层，其中还包括一设于缓冲层上的引导层、一设于引导层上的反铁磁层、一设于反铁磁层上的第一铁磁层、及一纳米氧化层，设于第一铁磁层和第二铁磁层之间；其制备方法是在基片上依次沉积各层并退火得到该钉扎材料；由本发明方法制备的钉扎材料的反铁磁层厚度明显减薄，钉扎场更大，矫顽力更小，磁滞回线矩形度更好，在铁磁层中几乎没有Mn的扩散，而且还实现了Ni－Mn合金对Co－Fe合金的钉扎；制备工艺简单、材料性能稳定。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 锰系反铁磁 多层 膜钉扎 材料 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1、一种铁磁/锰系反铁磁多层膜钉扎材料，包括一基片和在基片上设置的一缓冲层、一第二铁磁层及设在其上的一保护层，其特征在于，还包括：一引导层，设于缓冲层上，该引导层具有(111)织构；一反铁磁层，设于引导层上，该反铁磁层具有(111)织构；一第一铁磁层，设于反铁磁层上；及一纳米氧化层，设于第一铁磁层和第二铁磁层之间。
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