[发明专利]被处理液循环型析晶装置有效
| 申请号： | 02154018.7 | 申请日： | 2002-12-05 |
| 公开（公告）号： | CN1493382A | 公开（公告）日： | 2004-05-05 |
| 发明（设计）人： | 竹上敬三;高桥谦之;佐藤教子 | 申请（专利权）人： | 月岛机械株式会社 |
| 主分类号： | B01D9/02 | 分类号： | B01D9/02 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 汪惠民 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种被处理液循环型析晶装置，具有供有被处理液P的析晶槽(1)、设于该析晶槽(1)内的流通管(2)、设于该流通管(2)内侧及外侧的旋转桨叶(3)、(4)。并且，把槽底(20)形成为从圆周端部(21)向下倾斜到规定的部位(22)、并从规定的部位(22)向上倾斜到中心部(23)的形状。这种被处理液循环型析晶装置，既能防止微细结晶核的产生以及结晶的磨损、破碎，又可使结晶更大地成长，而且可以减少微细结晶。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 循环 型析晶 装置 | ||
【主权项】：
1.一种被处理液循环型析晶装置，具有：供有被处理液的析晶槽、设于该析晶槽内的流通管和设置于该流通管内侧及外侧中至少外侧的旋转桨叶，由所述旋转桨叶的旋转产生使被处理液沿所述流通管的外侧向下方流动、并通过所述流通管的下端边缘与所述析晶槽槽底之间沿所述流通管的内侧向上方流动的被处理液的循环，其特征在于：所述析晶槽的槽底的形状，是从圆周端部向下倾斜到规定部位、再从所述规定部位向上倾斜到中心部。
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